第五十三章 追光行动（3）(第2/4 页)

算了。

做科研，天赋之外，还得有眼光或者说是运气，否则走错了路，一辈子也就蹉跎了。

而这小子，无疑眼光或者是运气，都是逆天的。

接着，卿云的语气变得严肃，“不过，徐老爷子，还是要快，留给我们的时间并不多。”

徐端颐闻言，眼中闪过一丝坚定的光芒，“小卿，你放心，我这条命豁出去了。”

卿云点了点头，然后继续说道：“第二步，各大科研机构挑大梁，对各个子系统进行攻关，力争在5年内实现国产化率超过50%的目标。

再多的，无非是时间问题。

钱，你们不用考虑。至于基础材料什么的，我会启动另外一个计划来解决，绝对不会短科研一个材料。”

他的话语中透露出强大的自信和决心，让在座的各位大佬都感到了一种前所未有的振奋。

那边的黄令仪此时却给他破了一盆冷水，“小卿，不要盲目乐观。并不是有光刻机就‘大功告成’，可以开始‘印芯片’了。

光刻机更像是中间执行的环节，而在执行前后，还需要很多同样重要的工作，比如说计算光刻和量测。”

术业有专攻，她担心其他做元件和器件的同行不懂，进一步开口解释着，

“计算光刻指的是利用各种物理，化学和数学模型去计算模拟真实光刻发生的过程和结果。

通过修改各种参数，寻找最优的参数组合来修正掩膜板的图形和光源形状，来提升光刻的质量。

这种模拟仿真的思路类似造飞机的时候需要经过很多次的风洞实验，都通过之后才能进行真正的试飞，否则既危险又成本高昂。

计算光刻已经成为现代光刻技术研发的核心和最重要的环节之一。”

那边的徐端颐也补充着，“量测，就是进行芯片的缺陷检测，判断芯片是否合格。

一个晶圆的制作可能包含近百次的曝光，由于每次曝光的间隔都需要对晶圆进行移动调整，为了保证移动的稳定和精准，避免出现小至几纳米的误差导致芯片报废，就需要不断的对晶圆在纳米尺度做量测，并且实现校正和结果的反馈，从而不断的提升良率……”

徐端颐的话还没说完，就被卿云展示出来的ppt给打断了，而后一脸便秘的望着台前正无良笑着的少年。

狗日的！

你便宜老师科普的时候你不打断，我特么说话的时候你就来打脸是吧！

手里的茶杯盖子都想呼在那臭屁小子的脸上了。

太不尊老了！

台上的卿云嘿嘿的笑着，“集成电路制造的主要流程大概是，opc、smo计算光刻-涂胶-曝光-显影-刻蚀-离子注入-光刻胶移除-沉积-下一层制程-量测检验。

这十大工序，如同上面光刻机器的七大系统，我都进行了考虑和安排……”

徐端颐的内心虽然被卿云突如其来的ppt展示打断而感到有些尴尬，但随即他的心中却涌起了一股莫名的欣喜。

他心中暗自思忖：“这小子，确实有两把刷子。这种打脸，打得我舒坦。这说明了，他确实对各个环节都了如指掌，并且一一做了预案。”

徐端颐望着卿云的眼神中，不禁流露出了赞许的神色。

他知道，卿云的准备充分，意味着整个项目的成功概率将会大大提高。

在科研领域，一个详尽的预案往往能够决定一个项目能否顺利进行。

这种被后辈以实力打脸的感觉，让他既感到有些没面子，但同时也感到欣慰。

他明白，他们已经老了，甚至这里坐着的不少人，其实已经到了油尽灯枯的年纪。

科研的未来需要依靠这些有准备